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航天704所攻克工艺瓶颈产品质量大幅提升
来源:中国航天报     日期:2012年12月18日    字体:【】【】【

  近日,中国航天科技集团公司九院704所压力敏感元件工程组在敏感元件膜片研磨抛光工艺方面获得突破,在质量提升的同时大大提高了研磨抛光效率,解决了薄膜压力传感器批量生产的工艺瓶颈。

  在薄膜压力传感器研制生产过程中,敏感元件金属膜片的研磨和抛光是生产过程中的基础工序,膜片研磨抛光质量决
定了敏感元件可靠性和长期稳定性。

  近年来,该所型号任务多、交付量大、时间紧,以往研磨抛光工艺生产周期长、生产工序繁琐的缺点日渐突出。同时
,由于传统工艺所用研磨抛光辅料供应近年来逐渐下降,导致传统工艺不稳定。

  为此,该所组织成立了研磨抛光攻关小组,经过3个月的刻苦攻关,最终确立了一条新的研磨抛光工艺路线,大大提高
了生产效率,既提高了质量,又节约了人力成本,为该所推动微机械系统专业技术发展和提高经济效益起到了积极作用,同时也为型号产品的生产与交付奠定了坚实的基础。 (张磊 景翠)

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